溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制 器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。
信息存储产业：随着IT 产业的不断发展,世界对记录介质的需 求量越来越大,记录介质用靶材研究与生产成为一大热点。在信息存储产业中,使用溅射靶材制备的 相关薄膜产品有硬盘、磁头、光盘等。制造这些数据 存储产品,需要使用具有特殊结晶性与特殊成分的高品质靶材,常用的有钴、铬、碳、镍、铁、贵金属、稀 有金属、介质材料等。
集成电路产业：集成电路用靶材在全球靶材市场占较大份额, 其溅射产品主要包括电极互连线膜、阻挡层薄膜、接触薄膜、光盘掩膜、电容器电极膜、电阻薄膜等。其中薄膜电阻器是薄膜混合集成电路中用量最多的元 件,而电阻薄膜用靶材中Ni - Cr 合金的用量很大。
