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北京普瑞新材科技有限公司历经十几年的积累和沉淀，终于在2021年开工兴建属于自己的厂房。这些年我们经历了太多的不易，我们不忘初心，砥砺前行。最终从无到有，办公楼、厂房拔地而起，2023年5月基建基本
发布时间：2023-05-18 点击次数：192
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热烈庆祝北京普瑞新材科技有限公司成立十周年，为感谢新老员工对公司的辛勤付出，公司于6月18、19日两天组织员工去黄花城水长城游玩并在长城脚下农家院聚餐。普瑞新材全体员工深切认识到生产是
发布时间：2016-06-10 点击次数：934
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铪，金属Hf，原子序数72，原子量178.49，熔点高，与锆共存。是一种带光泽的银灰色的过渡金属。有金属光泽;金属铪有两种变体:α铪为六方密堆积变体(1750℃)，其转变温度比锆高。金属铪在高温下有同素异形变体存在。具有塑性的金属，当有杂质
发布时间：2016-06-01 点击次数：1148
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2016中国（北京）国际靶材产品及镀膜工业展览会时间：2016年5月9-11日地点：北京·国家会议中心同期活动：2016靶材应用研讨会2016真空镀膜技术交流会■组织单位主办单位：中国
发布时间：2016-05-01 点击次数：936
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钼靶材主要用于平面显示行业，属于钼金属制品生产链最顶端产品新靶材含有与刀具及模具等的母材的密着性高、且润滑性出色的钼。因此可省去用于提高密着性的衬底用靶材，降低成本。一般情况下，高硬度覆膜
发布时间：2016-04-22 点击次数：1432
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ITO材料是一种n型半导体材料，该种材料包括ITO粉末、靶材、导电浆料及ITO透明导电薄膜。其主要应用分为：平板显示器(FPD)产业，如液晶显示器(LCD)、薄膜晶体管显示器(TFT-LCD)、电激发光显示器(EL
发布时间：2016-03-29 点击次数：347
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磁控溅射原理：在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场，溅射靶材在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气)，永久磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。 在电场的
发布时间：2016-03-29 点击次数：533
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磁控溅射原理：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次
发布时间：2016-03-29 点击次数：752
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靶材的市场广阔，应用范围大，未来发展较大，为了帮助大家更多的了解靶材的性能，下面我们就为大家简单的介绍一下靶材的主要性能要求，希望对大家有所帮助。 纯度：纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影
发布时间：2016-03-29 点击次数：835
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溅射靶材磁控溅射原理： 在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气)，永久磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。 在电场的作用下，Ar气电离成正
发布时间：2016-03-29 点击次数：148
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高纯铝溅射靶材行业的发展情况。随着电子新材料行业的快速发展,以高纯铝为基础的电子新材料产品(包括靶材)需求将保持高速增长。十一五期间，我国“国家高技术研究发展计划(863计划)新材料技术领域“大尺寸超高纯铝靶材的
发布时间：2016-03-29 点击次数：518
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溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。 信息存储产业：随着IT产业的不断发展,世界对记录介质的需求
发布时间：2016-03-29 点击次数：186
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如果靶材是磁性材料，磁力线被靶材屏蔽，磁力线难以穿透靶材在靶材表面上方形成磁场，磁控的作用将大大降低。因此，溅射磁性材料时，一方面要求磁控靶的磁场要强一些，另一方面靶材也要制备的薄一些，以便磁力线能穿过靶材，在靶面
发布时间：2016-03-29 点击次数：169
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靶材的应用范围广阔，市场发展空间巨大，脱钛剂结合PVD镀膜的特点而生产的一种高效环保无毒退膜药水。 脱钛剂由于具有无毒﹑环保的特点，所以绝不伤害电镀保护漆与基体，并迅速剥离IP涂层，起到了良好的分色效果。它主要是针对离子装饰
发布时间：2016-03-29 点击次数：161
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磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电子交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出溅射靶材。在近
发布时间：2016-03-29 点击次数：333
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溅射靶材：金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材，氟化物陶瓷溅射靶材，氮化物陶瓷溅射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷溅射靶材，硅化物陶瓷溅射靶材，硫化物陶瓷溅射靶材，碲化物陶瓷
发布时间：2016-03-29 点击次数：263
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(1) density，这个是最主要的，好的靶密度至少达到97%以上，所以大家买回靶来以后可以根据重量体积来计算一下你们的靶的密度和理论块体的密度的比例有多少，低于90%的退货。 (2) 开裂问题，套磁靶很容易开
发布时间：2016-03-29 点击次数：432
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目前全球各主要靶材制造商的总部，大多设立在美国、德国和日本。就美国而言.约有50家中小规模的靶材制造商及经销商，其中最大的公司员工大约有几百人。不过为了能更接近使用者，以便提供更完善的售后服务，全球主要靶材制造商
发布时间：2016-03-29 点击次数：946
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真空溅射靶材的信息介绍，帮助大家更好的了解靶材行业的知识。 靶材技术指标：纯度：3-4N主要成分：ZnO：Al2O3=97:3[可根据用户要求调整Al2O3掺杂比(0-4)wt%]相对密度：d≥98%理论密度：ρ=5
发布时间：2016-03-29 点击次数：210
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靶材的作用很多，而且市场发展空间较大，它在很多领域都有很好的用途。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化,造成靶与氩气离子间的撞击机率增加, 提高溅镀速率。一般金属镀膜大都
发布时间：2016-03-29 点击次数：318
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磁控溅射靶材的运作过程很多人不不太清楚，对磁控溅射靶材的工作内容也不了解，下面就为大家简单的介绍一下。磁控溅射的基本原理是利用Ar一02混合气体中的等离子体在电场和交变磁场的作用下，被加速的高能粒子轰击靶材表面，能量交换后，靶材表面的原子
发布时间：2016-03-29 点击次数：327
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磁控溅射镀膜靶材： 金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材，氟化物陶瓷溅射靶材，氮化物陶瓷溅射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷溅射靶材，硅化物陶瓷溅射靶材，硫化物陶
发布时间：2016-03-29 点击次数：531
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靶材的主要性能要求纯度纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6”,8“发展到12”,而布线宽
发布时间：2016-03-29 点击次数：986
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国内溅射靶材发展与应用20世纪90年代以来靶材已蓬勃发展成为一个专业化产业，中国及亚太地区靶材的需求占有世界70%以上的市场份额。大量不同的沉积技术用来沉积生长各种薄膜，而靶材是制作薄膜的关键，品质的好坏对薄膜的意义重大。
发布时间：2016-03-29 点击次数：2647
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溅射靶材的分类金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材，氟化物陶瓷溅射靶材，氮化物陶瓷溅射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷溅射靶材，硅化物陶瓷溅射靶材，硫化
发布时间：2016-03-29 点击次数：763
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一、背靶材料无氧铜(OFC)–目前最常使用的作背靶的材料是无氧铜，因为无氧铜具有良好的导电性和导热性，而且比较容易机械加工。如果保养适当，无氧铜背靶可以重复使用10次甚至更多。钼(Mo)–在某些使用条件比较特殊的情况下，如
发布时间：2016-03-29 点击次数：333
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一、溅射准备保持真空腔体尤其是溅射系统洁净是非常重要的。任何由润滑油和灰尘以及前期镀膜所形成的残留物会收集水气及其他污染物，直接影响真空度获得和增加成膜失败的可能性。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化学杂质含量超标经
发布时间：2016-03-29 点击次数：1432
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合金靶材的溅射原理：对溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射
发布时间：2016-03-29 点击次数：452
